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博纳热pecvd气相沉积管式炉发货

发布时间:2024-05-09 作者:郑州博纳热窑炉有限公司

近日,博纳热PECVD气相沉积炉已顺利发货。

PECVD气相沉积炉作为薄膜制备领域的一大亮点,充分展现了其在技术上的卓越实力,采用前沿的等离子体化学气相沉积技术,通过精准调控工艺参数,能够为金属、半导体以及绝缘体等多样化材料提供无与伦比的薄膜沉积效果。

气相沉积炉的广泛应用,为微电子、光电、平板显示以及储能等诸多领域注入了新的活力,高效、稳定且可靠的制备能力,为用户提供了理想的解决方案,助力客户在各自的领域取得更加卓越的成果。

博纳热公司始终致力于技术创新与产品优化,此次气相沉积炉的成功发货,不仅彰显了其技术实力和市场竞争力,博纳热期待这款设备能够在未来的应用中发挥更大的作用,推动相关领域的持续发展。

PECVD设备

设备特点

1、高效加热

化学气相沉积炉采用了先进的HRE电阻丝加热方式,能够实现高达1200℃的加热温度,满足各种高温沉积工艺的需求,配备的50段可编程自动控制系统,可精确调控各项工艺参数,确保薄膜制备过程的高效与稳定。

2、安全防护

PECVD气相沉积炉采用了超温保护和漏电自动断电功能,确保在发生异常情况时能够迅速切断电源,保护操作人员的安全,双层风冷结构和日本技术真空吸附成型的氧化铝多晶纤维炉膛,不仅提升了散热效率,也确保了设备的持久保温性能。

3、制备性能

在温度控制和沉积速率方面气相沉积炉也表现出色,升温速率被精确控制在20℃/分以内,控温精度高达±1℃,这确保了薄膜质量的稳定性和一致性,射频辉光技术的应用使得沉积速率达到10Å/S,大幅提升了生产效率,通过多点射频馈入和特殊气路分布的设计,实现了薄膜均匀性高达8%的优异指标,为用户提供了更高品质的薄膜产品。

pecvd气相沉积炉

4、可扩展性

为了满足不同行业的需求,博纳热化学气相沉积炉具备出色的可扩展性和兼容性,可配备多种不同规格和类型的反应室,以适应不同材料和工艺的制备需求,支持多种气体混合和流量控制方式,为用户提供了更加灵活和便捷的操作体验。

总结

PECVD气相沉积炉凭借其独特的技术优势和创新设计,为微电子、光电、平板显示及储能等众多行业带来了解决方案,每一位客户的需求都是独特的,因此我们将继续倾听用户的声音,深入理解用户的需求,不断完善产品功能和服务体验,确保用户能够获得最大的满意度。

此次博纳热发货的PECVD气相沉积炉,不仅是博纳热在薄膜制备技术领域的新里程碑,也是对市场需求深刻理解与敏锐捕捉的直观体现,博纳热始终坚持以用户为中心,秉持“创新、品质、服务”的核心理念,致力于为用户提供更加卓越、高效、可靠的设备与服务。

pecvd气相沉积炉管

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