近日，博纳热PECVD气相沉积炉已顺利发货。
PECVD气相沉积炉作为薄膜制备领域的一大亮点，充分展现了其在技术上的卓越实力，采用前沿的等离子体化学气相沉积技术，通过精准调控工艺参数，能够为金属、半导体以及绝缘体等多样化材料提供无与伦比的薄膜沉积效果。
气相沉积炉的广泛应用，为微电子、光电、平板显示以及储能等诸多领域注入了新的活力，高效、稳定且可靠的制备能力，为用户提供了理想的解决方案，助力客户在各自的领域取得更加卓越的成果。
博纳热公司始终致力于技术创新与产品优化，此次气相沉积炉的成功发货，不仅彰显了其技术实力和市场竞争力，博纳热期待这款设备能够在未来的应用中发挥更大的作用，推动相关领域的持续发展。
设备特点
1、高效加热
化学气相沉积炉采用了先进的HRE电阻丝加热方式，能够实现高达1200℃的加热温度，满足各种高温沉积工艺的需求，配备的50段可编程自动控制系统，可精确调控各项工艺参数，确保薄膜制备过程的高效与稳定。
2、安全防护
PECVD气相沉积炉采用了超温保护和漏电自动断电功能，确保在发生异常情况时能够迅速切断电源，保护操作人员的安全，双层风冷结构和日本技术真空吸附成型的氧化铝多晶纤维炉膛，不仅提升了散热效率，也确保了设备的持久保温性能。
3、制备性能
在温度控制和沉积速率方面气相沉积炉也表现出色，升温速率被精确控制在20℃/分以内，控温精度高达±1℃，这确保了薄膜质量的稳定性和一致性，射频辉光技术的应用使得沉积速率达到10Å/S，大幅提升了生产效率，通过多点射频馈入和特殊气路分布的设计，实现了薄膜均匀性高达8%的优异指标，为用户提供了更高品质的薄膜产品。
4、可扩展性
为了满足不同行业的需求，博纳热化学气相沉积炉具备出色的可扩展性和兼容性，可配备多种不同规格和类型的反应室，以适应不同材料和工艺的制备需求，支持多种气体混合和流量控制方式，为用户提供了更加灵活和便捷的操作体验。
总结
PECVD气相沉积炉凭借其独特的技术优势和创新设计，为微电子、光电、平板显示及储能等众多行业带来了解决方案，每一位客户的需求都是独特的，因此我们将继续倾听用户的声音，深入理解用户的需求，不断完善产品功能和服务体验，确保用户能够获得最大的满意度。
此次博纳热发货的PECVD气相沉积炉，不仅是博纳热在薄膜制备技术领域的新里程碑，也是对市场需求深刻理解与敏锐捕捉的直观体现，博纳热始终坚持以用户为中心，秉持“创新、品质、服务”的核心理念，致力于为用户提供更加卓越、高效、可靠的设备与服务。
